鵞足炎の病態とリハビリテーションの方法について解説していきます。
鵞足の概要
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鵞足は脛骨近位内側で、①縫工筋、②薄筋、③半腱様筋の３つの筋肉の腱が扇状に付着する部位の総称を指します。
付着部の形態が鵞鳥の足に似ていることから「鵞足」と名付けられました。
鵞足炎の発生機序
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鵞足炎は膝関節の屈曲と伸展が繰り返されることにより、表層の鵞足と深層の内側側副靭帯が擦れることにより生じます。
摩擦を緩和するために鵞足と内側側副靭帯の間には「滑液包」が存在しており、正常なら炎症を起こすことはほとんどありません。
しかし、大腿骨内旋位や下腿骨外旋位、膝関節外反位となっているヒトでは鵞足が引き伸ばされるため、内側側副靱帯との摩擦力が増加して損傷する可能性が高くなります。
リハビリテーション
リハビリの評価で重要なのは、①力学的推論、②組織学的推論、③時間的推論を行うことです。
鵞足炎のリスクを高める力学的問題は、股関節内転モーメント、膝関節内反モーメント、膝関節内旋モーメントが挙げられます。
鵞足炎のリスクを高める組織学的問題は、鵞足のタイトネス（緊張増大）が挙げられます。
力学的推論と治療
力学的推論とは、簡単に書くと「どのストレスで痛いか？」を見つけ出すことです。
鵞足構成筋の中で最も鵞足炎に関与しやすいのが薄筋であり、薄筋の作用は股関節の屈曲・内転、膝関節の屈曲・外反、下腿の内旋になります。
そのため、前述した３つのモーメントの影響を受けやすく、それに伴う緊張増大が起こりやすい筋肉といえます。
股関節内転モーメントを増大する原因として、①骨盤内方位、②COM内方位、③股関節外転位荷重、④骨盤下制が挙げられます。
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股関節内転モーメントを増大する原因として、①骨盤内方位、②COM内方位、③股関節外転位荷重、④骨盤下制が挙げられます。
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膝関節内反モーメントを増大する原因として、①股関節外反位荷重、②骨盤内方位、③COM内方位、④COP内方位が挙げられます。
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膝関節内旋モーメントは、立脚前半相に生じるタイプと立脚後半相に生じるタイプの２つがあります。
大腿骨が内旋する場合や下腿骨が外旋する場合にモーメントは増大しますが、下腿骨と大腿骨が同方向に回旋した場合はモーメントが生じません。
あくまで膝のねじれによって生じるので、触診にて下腿外旋症候群が存在していないかを確認しておくことが重要です。
力学的問題は数多く存在するので、どの要素が最も影響を与えているかを考察しながら、必要な部分にアプローチしていきます。
前述した力学的推論は「歩行時のストレス」を示したものであり、スポーツなどの特異的な動作を反映していません。
そのため、疼痛を誘発しやすい動作について確認し、鵞足にストレスのかかりにくい動きを指導することが再発予防には重要となります。
組織学的推論と治療
組織学的推論とは、先ほどの力学的ストレスを受けた時に「痛みを誘発している組織は何か？」を見つけ出すことです。
鵞足は３つの筋肉で構成されているため、具体的にどの筋肉が疼痛の主因となっているかを鑑別する必要があります。
ほとんどのケースでは薄筋腱が炎症を起こしているため、まずは薄筋から圧痛や伸張痛の有無を確認すると効率的です。
薄筋の作用は、①股関節の屈曲・内転、②膝関節の屈曲、③下腿の内旋なので、その反対方向に動かすことで伸張できます。
鵞足滑液包や内側側副靱帯に炎症が起きている可能性もあるので、鵞足構成筋以外の組織についても調べておくと確実です。
鵞足炎を有するヒトは大腿内側の筋・筋膜にタイトネスを認めるので、滑走不全がある部位にリラクゼーションを行っていきます。
内側広筋は広筋内転筋腱板から起始しており、膝関節内旋モーメント（下腿外旋症候群）が生じている場合は緊張が増大しています。
そうすると膝関節の内側膝蓋支帯は硬くなり、膝蓋骨は外下方へのモビリティが低下することにつながります。
鵞足構成筋と筋膜上で連結している組織は影響を与えることになるので、必要に応じてアプローチしていきます。
時間的推論と治療
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時間的推論は組織の損傷がどの段階にあるかですが、ここは画像診断と合わせて評価していくことが必要となります。
stageが「Ⅳ」または「Ⅴ」であっても、炎症がないために痛みがほとんどないケースも非常に多いことに留意します。
過去に強い痛みがなかったとしても、器質的変化（変形）が起きている場合もあり、早い段階でステージを進行させないアプローチが重要です。
骨や軟骨が変形してしまうと二度と元には戻らないので、力学的ストレスを軽減させることが困難となるケースも多いです。
場合によっては手術が必要となるので、時間的推論も行うようにしてください。
